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- | Durchkontaktierung (ugs. Durchsteiger) (engl. Vertical Interconnect Access, abgekürzt VIA) ist eine vertikale elektrische Verbindung zwischen den Leiterebenen einer [[leiterplatte|Leiterplatte]]. Die Verbindung wird meist mit durch eine innen metallisierte Bohrung im Trägermaterial der Leiterplatte realisiert. Selten werden auch Niete und Stifte verwendet. | + | Durchkontaktierung (ugs. Durchsteiger) (engl. Vertical Interconnect Access, abgekürzt VIA) ist eine vertikale elektrische Verbindung zwischen den Leiterebenen einer [[printed circuit board|Leiterplatte]]. Die Verbindung wird meist mit durch eine innen metallisierte Bohrung im Trägermaterial der Leiterplatte realisiert. Selten werden auch Niete und Stifte verwendet. |
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Bedrahtete Bauteile werden zunehmend durch unbedrahtete Surface Mounted Devices ersetzt, daher besitzen heutige Leiterplatten eine größere Zahl an Durchkontaktierungen, | Bedrahtete Bauteile werden zunehmend durch unbedrahtete Surface Mounted Devices ersetzt, daher besitzen heutige Leiterplatten eine größere Zahl an Durchkontaktierungen, | ||
- | Wenn (bedrahtete) Bauteile in Durchkontaktierungen gelötet werden, werden die Durchkontaktierung mit Lot gefüllt. Das verbessert die Verbindung des Bauteils zur Leiterplatte, | + | Wenn (bedrahtete) Bauteile in Durchkontaktierungen gelötet werden, werden die Durchkontaktierung mit Lot gefüllt. Das verbessert die Verbindung des Bauteils zur Leiterplatte, |
Durchkontaktierte Leiterplatten liefern einen besseren Halt und zuverlässigere Verbindung bedrahteter Bauteile. Sie sind daher auch bei einfachen Baugruppen hoher Qualität üblich. Neben der Klebeverbindung der einzelnen Schichten der Leiterplatte sorgen die metallisierten Durchkontaktierungen zu einem besseren Zusammenhalt der Leiterplatte. | Durchkontaktierte Leiterplatten liefern einen besseren Halt und zuverlässigere Verbindung bedrahteter Bauteile. Sie sind daher auch bei einfachen Baugruppen hoher Qualität üblich. Neben der Klebeverbindung der einzelnen Schichten der Leiterplatte sorgen die metallisierten Durchkontaktierungen zu einem besseren Zusammenhalt der Leiterplatte. | ||
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